磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。. . . 閱讀全文

　　靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如 Ic 制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。 　　另外，近年來平面顯示器（ FPD ）大幅度取代原 以陰極射線管（ C. . . 閱讀全文

　　1、微電子領域 　　 　　在所有應用產業中，半導體產業對靶材濺射薄膜的品質要求是很苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。 　　 　　2、顯示器用 　　 　　平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視. . . 閱讀全文

　　1、防止靶材受熱不勻碎裂，例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及燒結靶材； 　　 　　2、節省成本，防止變形，如靶材太貴，可將靶材做薄些，綁定背靶以防止變形。 . . . 閱讀全文

　　ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。. . . 閱讀全文

　　ITO靶焊接簡述： 　　 　　1.靶材焊接面金屬化處理； 　　 　　2.銅背板預處理，打磨，清洗； 　　 　　3.靶材、銅背板一同置于加熱臺均勻升溫； 　　 　　4.溫升至焊接材料銦剛好融化時，先涂布少量銦于銅背板，后用安裝了鋼絲刷的角磨機打磨； 　　 　　5.靶材焊接面金屬化處理面涂布少量銦；（工具：鋼絲刷，油灰刀） 　　 　　6.背板再涂布適. . . 閱讀全文

　　不同靶材產生的X線波長不同，根據需要選擇，軟X線設備大多使用鉬靶，普通X線設備大多使用鎢靶。不同材料比熱和散熱率不同，價格區別也很大，靶基材料根據需要選擇，大都用銅、鎢、鉬或石墨等。. . . 閱讀全文

　　鉬靶材可以用綠碳化硅砂輪，或者金剛石砂輪磨削。. . . 閱讀全文

半導體鍍膜用靶材主要有W、WTi合金、Ti、Ta、Al、Cu、Au、Pt等。 半導體鍍膜要求靶材純度很高，對堿金屬、放射性元素等雜質含量要求也十分嚴格。 . . . 閱讀全文

鉬濺射靶材，即鉬靶材，通常由鉬粉經燒結而成。鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品。隨著平面顯示器行業和光伏行業的迅速發揮發展，鉬濺射靶材的需求量越來越大。以下討論鉬濺射靶材在各行業中的應用。 1）在電子行業中，鉬濺射靶材主要應用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導體的阻擋層材料。 2）在平面顯示器行業中，鉬濺射靶材的主. . . 閱讀全文